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半导体生产中RO膜污堵、脱盐率下降,EDI出水电阻率不稳定,如何解决?
半导体生产中RO膜污堵、脱盐率下降,EDI出水电阻率不稳定,如何解决?更多开始
半导体生产中RO膜污堵、脱盐率下降,EDI出水电阻率不稳定,如何解决?
案例概述
建议同步处理RO膜和EDI模块。具体措施:更换全套RO膜元件并清洗膜壳;拆解EDI模块,更换树脂膜片、修复电极、更换密封件;技术人员现场调试水路电路和运行参数。某半导体企业实施后,RO产水水质稳定,EDI出水电阻率恢复至标准要求,设备运行压力正常、无报警,完全满足生产工艺用水。客户评价“维修及时,施工规范,水质达标稳定”。
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