半导体芯片行业应用方案

恒久稳定的18MΩ·cm水质，守护每一片晶圆良率

湖南兆纯科技——以自研MILLIONPURE EDI技术为核心，为您彻底终结混床时代的酸碱危废与水质波动。

行业痛点与深层挑战

在半导体芯片制造中，超纯水直接接触晶圆表面，用于清洗、蚀刻、光刻等多道核心工序。水中的任何微量TOC、溶解氧、颗粒物或电阻率的微小波动，都会直接导致电路缺陷、良率骤降，造成巨大经济损失。

您当前使用的传统“离子交换混床”工艺，正面临着三大致命难题：

水质周期性波动：混床再生后，出水电阻率存在明显的“爬坡期”和“低谷期”，无法在整个制水周期内保证18 MΩ·cm的恒久稳定，成为生产质量的隐形杀手。

危险的化学品依赖：频繁的酸碱再生不仅操作风险高，更产生大量废酸、废碱，企业每年需为此支付高昂的危废处理费用，且面临日益严苛的环保监管压力。

高昂的运行与维护成本：再生停机时间长、药剂消耗大、人工维护繁重，导致综合制水成本居高不下。

兆纯核心工艺与解决方案

针对半导体行业对超纯水“零容忍”的水质要求，湖南兆纯科技提供以两级RO+MILLIONPURE EDI+抛光混床为核心的解决方案，从根源上消除水质波动与化学污染。

预处理与反渗透段：通过多介质过滤、活性炭吸附及软化器，配合杜邦/海德能高脱盐率反渗透膜，有效去除原水中的悬浮物、余氯及绝大部分离子，将TDS降至更低水平，为后续精处理系统提供稳定、低负载的进水。

工艺灵魂——MILLIONPURE EDI 深度精处理：我们采用完全自主研发的 MILLIONPURE EDI 膜堆 取代传统混床。该膜堆搭载独有的树脂全填充技术与低内阻结构设计，在整个运行周期内，无需一滴酸、一滴碱进行化学再生，即可将产水电阻率持续稳定在16-18 MΩ·cm，水质输出无任何波峰波谷。这意味着：

零化学品消耗：彻底告别危化品仓储、操作风险及废液排放。

24/7运行稳定：为后级抛光混床提供近乎完好的进水，将其使用寿命延长数倍，并至终保障终端产水轻松达到并维持 18.2 MΩ·cm 的更好标准。

显著降低吨水成本：运行能耗低，几乎无需人工干预，全生命周期综合成本较混床工艺大幅降低。

获取您的专属高纯水方案

无论您是计划新建一条超纯水生产线，还是希望对现有混床系统进行无酸化改造，亦或是日常采购RO膜、抛光树脂等耗材，兆纯科技都能提供从咨询、设计到交付、运维的专业定制化服务。