半导体工厂超纯水系统如何实现18MΩ·cm的稳定水质？

实现18MΩ·cm稳定水质的核心在于用EDI技术替代传统混床。传统混床在再生周期内存在水质波峰波谷，难以全程保障超纯水电阻率。湖南兆纯科技采用自研MILLIONPURE EDI膜堆，凭借树脂全填充技术与低内阻设计，在直流电场下无需酸碱再生，产水电阻率即可持续稳定在16-18MΩ·cm，为后级抛光混床提供更佳进水，终而稳定输出18.2MΩ·cm超纯水，从根源上消除水质波动对晶圆清洗工艺的影响。